特許

J-GLOBAL ID：200903072189569056

光学デバイスの製造方法

発明者： 江田 昭
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 遠山 勉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-007061
公開番号（公開出願番号）：特開2001-242632
出願日： 1992年06月19日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：

【要約】【目的】 光学材料の表面に少なくとも1つの凸弧面を一体に形成する。【構成】 光学材料40の表面上に形成されたフォトレジスト膜42に、フォトリソグラフィー法による露光、現像により少なくとも1つの凸弧面42aを形成し、光学材料の表面及び前記フォトレジスト膜をエッチングして、フォトレジスト膜の前記凸弧面に類似した少なくとも1つの凸弧面12を光学材料の表面に形成する。フォトリソグラフィー法で凸弧面を形成する方法として、フォトレジスト膜に円形あるいは楕円形のパターンを露光する露光工程において、露光強度を前記パターンの中心から周辺に行くにつれ次第に変化させる。

請求項（抜粋）：

光学材料の表面上に形成されたフォトレジスト膜に、フォトリソグラフィー法による露光、現像により少なくとも1つの凸弧面を形成し、光学材料の表面及び前記フォトレジスト膜をエッチングして、フォトレジスト膜の前記凸弧面に類似した少なくとも1つの凸弧面を光学材料の表面に形成する方法であり、フォトリソグラフィー法で凸弧面を形成する方法として、フォトレジスト膜に円形あるいは楕円形のパターンを露光する露光工程において、露光強度を前記パターンの中心から周辺に行くにつれ次第に変化させることを特徴とする光学デバイスの製造方法。

IPC (6件)：

G03F 7/20 501 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/10 ,  G02F 1/37 ,  G03F 1/08 ,  H01S 3/06

FI (6件)：

G03F 7/20 501 ,  G02B 3/00 A ,  G02B 5/10 C ,  G02F 1/37 ,  G03F 1/08 G ,  H01S 3/06 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭56-013782
  
• 特開昭59-172723