特許

J-GLOBAL ID：200903072199641952

水素製造装置

発明者： 原田 亮 ,  堀 美知郎
出願人/特許権者： 東芝インターナショナルフュエルセルズ株式会社
代理人 (1件)： 波多野 久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-283106
公開番号（公開出願番号）：特開2003-095614
出願日： 2001年09月18日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：

【要約】【課題】反応容器に充填する触媒を浮遊状態の流動層に形成し、流動層に燃料、空気、水蒸気を加えて効率よく水素ガスを生成する水素製造装置を提供する。【解決手段】本発明に係る水素製造装置は、触媒10を粒子状にして浮遊させ流動層11として形成する容器本体3と、容器本体3の入口側に設けられ、予混合室8を備える燃料ガス導入部4と、粒子状の触媒10を循環させる触媒粒子循環系1と、容器本体3と予混合室8との間に設けたガス分散板9と、容器本体3の出口側に設けた触媒粒子流出防止手段15と、容器本体3に設けた加熱手段13とを備える。

請求項（抜粋）：

触媒を粒子状にして浮遊させ、流動層として形成する容器本体と、この容器本体の入口側に設けられ、原料と空気とを混合させる予混合室を備えた燃料ガス導入部と、前記容器本体に設けられ、前記粒子状の触媒を循環させる触媒粒子循環系と、前記容器本体と前記予混合室との間に介装するガス分散板と、前記容器本体の出口側に設けた触媒粒子流出防止手段と、前記容器本体に設けた加熱手段とを備えることを特徴とする水素製造装置。

IPC (9件)：

C01B 3/44 ,  B01J 8/18 ,  B01J 8/24 321 ,  B01J 23/94 ,  B01J 35/04 331 ,  B01J 35/10 301 ,  B01J 37/02 101 ,  B01J 37/02 301 ,  B01J 38/12

FI (9件)：

C01B 3/44 ,  B01J 8/18 ,  B01J 8/24 321 ,  B01J 23/94 M ,  B01J 35/04 331 A ,  B01J 35/10 301 J ,  B01J 37/02 101 Z ,  B01J 37/02 301 A ,  B01J 38/12 C

Fターム (61件)：

4G040EA03 ,  4G040EA06 ,  4G040EB14 ,  4G040EB25 ,  4G040EB27 ,  4G040EC01 ,  4G040EC02 ,  4G040EC03 ,  4G040EC05 ,  4G040EC08 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA02A ,  4G069BA04A ,  4G069BA05A ,  4G069BA06A ,  4G069BB02A ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC02A ,  4G069BC03A ,  4G069BC09A ,  4G069BC12A ,  4G069BC13A ,  4G069BC31A ,  4G069BC42A ,  4G069BC64A ,  4G069BC66A ,  4G069BC66B ,  4G069BC68A ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC73A ,  4G069BC74A ,  4G069BC75A ,  4G069CC17 ,  4G069DA08 ,  4G069EA01Y ,  4G069EC02X ,  4G069FA01 ,  4G069FA02 ,  4G069FB11 ,  4G069FB14 ,  4G069FB23 ,  4G069FC08 ,  4G069GA06 ,  4G070AA01 ,  4G070AB06 ,  4G070BB32 ,  4G070CA01 ,  4G070CA08 ,  4G070CA13 ,  4G070CA19 ,  4G070CA30 ,  4G070CB02 ,  4G070CB05 ,  4G070CB25 ,  4G070CC20 ,  4G070DA23