特許
J-GLOBAL ID：200903072208515043
光源装置及びそれを用いた露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇都宮 正明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-285025
公開番号（公開出願番号）：特開2003-092199
出願日： 2001年09月19日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：
【要約】【課題】 エテンデュが小さく、高出力を取り出すことができ、デブリによる損傷の少ない光源装置を提供する【解決手段】 この光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、ターゲットとなる物質を供給するターゲット供給部と、低次の横モードを有する発振段レーザ21と発振段レーザにより発生した低次の横モードのレーザビームを増幅する増幅段レーザ22〜24とを含み、増幅されたレーザビームをターゲットに照射することによりプラズマを発生させるレーザ部と、プラズマから放出される極端紫外光を集光して出射する集光光学系とを具備する。
請求項（抜粋）：
ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、前記ターゲットとなる物質を供給するターゲット供給部と、低次の横モードを有する発振段レーザと、前記発振段レーザにより発生した低次の横モードのレーザビームを増幅する少なくとも1つの増幅段レーザとを含み、増幅されたレーザビームを前記ターゲットに照射することによりプラズマを発生させるレーザ部と、前記プラズマから放出される極端紫外光を集光して出射する集光光学系と、を具備する光源装置。
IPC (3件)：
H05H 1/24
, G03F 7/20 503
, H01L 21/027
H05H 1/24
, G03F 7/20 503
, H01L 21/30 531 S
2H097CA15
, 2H097GB00
, 2H097LA10
, 5F046GA03
, 5F046GB01
, 5F046GC03
