成分分析装置および方法、異物分析システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-163371
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352081
出願日： 1998年06月11日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】試料の表面の異物の成分を分析するため、その位置にエネルギビームを照射して発生エネルギを検出する装置において、発生エネルギの検出感度を向上させて分析精度を改善する。【解決手段】試料12の表面にエネルギビームを照射させるとき、データ設定されている位置よりエネルギ検出手段18の方向に変位した位置にエネルギビームが照射されるように動作制御手段21で相対移動手段14の動作を制御する。異物は凸部となって発生エネルギを遮蔽するため、エネルギビームを異物の中心の位置に照射するよりもエネルギ検出手段18に近接した位置に照射したほうが、発生エネルギの検出感度が向上する。

請求項（抜粋）：

試料を保持する試料保持手段と、該試料保持手段により保持された試料の表面にエネルギビームを照射するビーム照射手段と、前記ビーム照射手段のビーム照射による試料の発生エネルギを検出するエネルギ検出手段と、該エネルギ検出手段の検出データにより試料の成分を分析する成分分析手段と、該成分分析手段に成分を分析させる試料の表面の位置が事前にデータ設定されているデータ記憶手段と、該データ記憶手段にデータ設定されている位置にエネルギビームが照射されるように前記試料保持手段と前記ビーム照射手段とを相対移動させる相対移動手段と、前記データ記憶手段にデータ設定されている位置より前記エネルギ検出手段の方向に変位した位置に前記ビーム照射手段のエネルギビームが照射されるように前記相対移動手段の動作を制御する動作制御手段と、を具備している成分分析装置。

IPC (6件)：

G01N 23/225 , G01N 21/88 , H01L 21/66 , G01N 21/27 , G01N 21/62 , G01N 21/64

FI (6件)：

G01N 23/225 , G01N 21/88 E , H01L 21/66 J , G01N 21/27 A , G01N 21/62 A , G01N 21/64 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

微小異物の位置決め方法、分析方法、これに用いる分析装置およびこれを用いた半導体素子もしくは液晶表示素子の製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-121314 出願人：三菱電機株式会社
特開昭43-002825
特開平1-213945

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