特許

J-GLOBAL ID：200903072220332400

脱離基を有する新規なシリコーン

発明者： 高橋 栄治 ,  井柳 宏一
出願人/特許権者： ポーラ化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-210099
公開番号（公開出願番号）：特開平9-040680
出願日： 1995年07月26日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：

【要約】【構成】 一般式(I)に表される含フッ素シリコーン及びそれを含有する組成物並びにそれを反応させてなる組成物。【化1】【効果】 本発明のシリコーンは他のモノマー等と共に柔軟且つ強固な被膜組成物を形成する。

請求項（抜粋）：

一般式(I)に表される含フッ素シリコーン。【化1】

FI (3件)：

C07F 7/18 E ,  C07F 7/18 N ,  C07F 7/18 Q