特許

J-GLOBAL ID：200903072221459683

金属錯体からなる薄膜の形成方法および該薄膜を構成要素とする発光素子

発明者： 加藤 愼治 ,  朴 鐘震
出願人/特許権者： 財団法人川村理化学研究所
代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-037400
公開番号（公開出願番号）：特開2001-226146
出願日： 2000年02月16日
公開日（公表日）： 2001年08月21日
要約：

【要約】【課題】 発光素子として有用な金属錯体からなる薄膜であって、極めて薄く、高い安定性を有する薄膜を、高い分子密度で、厚み精度よく、簡便に、且つ、確実に形成する方法を提供すること。【解決手段】 (1)1分子中に少なくとも2〜3個の配位子と金属を有する金属錯体であって、金属錯体1分子中に、リン酸基、ホスホン酸基またはそれらの誘導基2〜8個が配位子に結合した構造を有する金属錯体を含有する溶液に、表面が金属酸化物からなる基材を浸漬させる第1工程、(2)基材表面に化学吸着しなかった過剰の金属錯体を除去した後、乾燥させる第2工程、(3)周期律表の第IV族に属する金属の塩の水溶液に浸漬する第3工程、(4)基材を水洗した後、乾燥させる第4工程、(5)第4工程で得た基材に、再度、第1工程〜第4工程の処理を1回以上施す工程からなる基材上に金属錯体からなる薄膜を形成する方法。

請求項（抜粋）：

(1)1分子中に少なくとも2〜3個の配位子と金属を有する金属錯体であって、金属錯体1分子中に、リン酸基、ホスホン酸基およびそれらの誘導基からなる群から選ばれる官能基2〜8個が配位子に結合した構造を有する金属錯体を含有する溶液に、少なくとも表面が金属酸化物からなる基材を浸漬させる第1工程、(2)当該溶液から基材を引き上げて、基材表面に化学吸着しなかった過剰の金属錯体を除去した後、乾燥させる第2工程、(3)第2工程で得た金属錯体が化学吸着した基材を、周期律表の第IV族に属する金属の塩の水溶液に浸漬する第3工程、(4)当該水溶液から基材を引き上げて、基材を水洗した後、乾燥させる第4工程、(5)第4工程で得た基材に、再度、第1工程〜第4工程の処理を1回以上施す工程からなることを特徴とする基材上に金属錯体からなる薄膜を形成する方法。

IPC (6件)：

C03C 17/34 ,  B32B 9/00 ,  C09K 11/06 660 ,  C23C 26/00 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (6件)：

C03C 17/34 Z ,  B32B 9/00 Z ,  C09K 11/06 660 ,  C23C 26/00 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A