特許

J-GLOBAL ID：200903072226290822

塗布装置

発明者： 久道 純一郎 ,  沼岡 昇
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-151163
公開番号（公開出願番号）：特開平10-000411
出願日： 1996年06月12日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：

【要約】【課題】 塗料がスリット内に滞留化することなく吐出されて、塗布ムラや筋の発生を抑えて高品質な塗膜を形成する塗布装置を提供する。【解決手段】 塗料4が供給される塗料溜まり5を有してなるダイ2を備え、連続的に走行する支持体1上に、ダイ2の先端に設けられたスリット3より塗料4を押し出しながら塗布するエクストルージョン型の塗布装置において、上記スリット3の内壁面に、無電解ニッケル被膜中に四フッ化エチレンの微粒子が均一に分散共析された複合メッキ被膜による表面処理が施されている。

請求項（抜粋）：

塗料が供給される塗料溜まりを有してなるダイを備え、連続的に走行する支持体上に、ダイの先端に設けられたスリットより塗料を押し出しながら塗布するエクストルージョン型の塗布装置において、上記スリット内壁面に、無電解ニッケル被膜中に四フッ化エチレンの微粒子が均一に分散共析された複合メッキ被膜による表面処理が施されていることを特徴とする塗布装置。