特許
J-GLOBAL ID：200903072226835551
微細パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-182409
公開番号（公開出願番号）：特開平5-028852
出願日： 1991年07月23日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 線幅が微細であるとともに、膜厚も適度な微細パターンを高い精度で効率よく形成することのできる微細パターンの形成方法を提供する。【構成】 透明基板1の凹部3に紫外線硬化型透明インキ4を充填し、透明基板の裏側から紫外線を照射して凹部内の紫外線硬化型透明インキが存在する領域に照射された紫外線のみを感光性層5に照射し、その他の領域に照射された紫外線を紫外線非透過膜により遮光し、これにより、所定のパターンを有する紫外線硬化型透明インキ上の感光性層にのみ粘着性を発現させ、この粘着性が発現された感光性層を介して凹部内の紫外線硬化型透明インキを被加工物に転写させる。
請求項（抜粋）：
透明基板の一方の面に紫外線非透過膜を形成し、該紫外線非透過膜側から前記透明基板に所定パターンで凹部を形成し、該凹部に紫外線硬化型透明インキを充填するとともに、露光により粘着性を発現する感光性物質を前記紫外線非透過膜および前記凹部内の紫外線硬化型透明インキを覆うように塗布して感光性層を形成し、次に、前記透明基板の裏側から紫外線を照射して前記感光性層のうち前記凹部内の紫外線硬化型透明インキ上の感光性層にのみ粘着性を発現させ、その後、粘着性が発現された前記感光性層を介して前記凹部内の紫外線硬化型透明インキを被加工物に転写させることを特徴とする微細パターンの形成方法。
IPC (4件)：
H01B 13/00 503
, G03F 7/26
, H01L 21/027
, H05K 3/20
