特許
J-GLOBAL ID：200903072244269075
洗浄処理装置及び洗浄処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-368395
公開番号（公開出願番号）：特開平11-195634
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：
【要約】【課題】 薬液供給管路中に付着する薬液の気泡を積極的に除去して、薬液の供給精度の向上及び洗浄処理精度の向上を図れるようにする。【解決手段】 半導体ウエハWを収容する処理槽30と開閉バルブV1を介設する薬液供給管路34を介して処理槽30に接続される薬液供給源35と、を具備する洗浄処理装置において、薬液供給管路34に介設されるポンプ39の吐出側と薬液供給源35とを循環路40で接続して、循環経路41を形成し、循環路40に開閉バルブV3を介設すると共に、この開閉バルブV3を適宜開放して、薬液供給管路34中に発生する気泡を管路内から排出する。
請求項（抜粋）：
被処理体を収容する処理槽と、開閉手段を介設する薬液供給管路を介して上記処理槽に接続される薬液供給源と、を具備する洗浄処理装置において、上記薬液供給管路に介設される薬液供給手段の吐出側と上記薬液供給源とを循環路で接続して、循環経路を形成し、上記循環路に開閉手段を介設すると共に、この開閉手段を適宜開放して、上記薬液供給管路中に発生する気泡を管路内から排出する、ことを特徴とする洗浄処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 648
, H01L 21/304
H01L 21/304 648 K
, H01L 21/304 648 F
