特許
J-GLOBAL ID：200903072246979274
露光マスク及びその作成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-227950
公開番号（公開出願番号）：特開平5-066551
出願日： 1991年09月09日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】【目的】本発明は、露光マスク及びその作成方法に関し、更に詳しく言えば、露光法により半導体基板等の表面にパターンの転写を行うための露光マスク及びその作成方法に関し、従来知られている位相シフト法以外の方法を用いて、露光光の短波長化,高開口数化による解像力の向上が有効に行われるようにすることができる露光マスク及びその作成方法を提供することを目的とする。【構成】透明な基板8の一表面に透光領域12と遮光領域11とを有する露光マスク13において、透光領域12に1よりも大きい屈折率を有する集光部14bを有し、集光部14bは、露光光の入射面及び出射面のどちらか一方の面が露出し、かつ少なくとも該入射面及び出射面のどちらか一方の面が集光部14bの内央部に対して凸形状を有していることを含み構成する。
請求項（抜粋）：
透明な基板の一表面に透光領域と遮光領域とを有する露光マスクにおいて、前記透光領域に1よりも大きい屈折率を有する集光部を有し、該集光部は、露光光の入射面及び出射面のどちらか一方の面が露出し、かつ少なくとも該入射面及び出射面のどちらか一方の面が集光部の内央部に対して凸形状を有していることを特徴とする露光マスク。
IPC (2件)：
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