特許

J-GLOBAL ID：200903072257862840

電子ビーム溶解方法及びその方法により得られた材料の使用方法

発明者： 山本 則雄
出願人/特許権者： 日鉱金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-050791
公開番号（公開出願番号）：特開2002-249830
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】金属インゴットの径方向の結晶成長を抑制した微細粒からなるインゴットを提供し、加工性のよい材料等とすることを目的とする。【解決手段】電子ビームを照射して金属材料を溶解する電子ビーム溶解法において、電子ビームの大きさをルツボ径の25〜50%に絞り、溶湯の中央部を中心にしてビームを円周方向に50 〜240 rpmの円運動させ凝固した金属鋳塊の結晶粒径を微細化する電子ビーム溶解方法。

請求項（抜粋）：

電子ビームを照射して金属材料を溶解する電子ビーム溶解法において、電子ビームの大きさをルツボ径の25〜50%に絞り、溶湯の中央部を中心にしてビームを円周方向に50 〜240 rpmの円運動させ凝固した金属鋳塊の結晶粒径を微細化することを特徴とする電子ビーム溶解方法。

IPC (4件)：

C22B 9/22 ,  B22D 27/02 ,  B22D 27/04 ,  B22D 27/20

FI (4件)：

C22B 9/22 ,  B22D 27/02 C ,  B22D 27/04 G ,  B22D 27/20 A

Fターム (6件)：

4K001AA09 ,  4K001AA17 ,  4K001AA29 ,  4K001BA24 ,  4K001FA13 ,  4K001GA19