特許
J-GLOBAL ID：200903072261330810
液浸リソグラフィ用の液体噴射回収システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川北 喜十郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-509591
公開番号（公開出願番号）：特表2006-523029
出願日： 2004年04月01日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：
液浸リソグラフィ装置用の液体噴射回収システムは、ノズル列を有し、各ノズルの開口部は、ウェハなどのワークピース上に像のパターンが投影される露光領域に近接して位置付けられている。これらのノズルは、各々が流体を露光領域に供給するソースノズルかまたは流体を露光領域から回収する回収ノズルとして選択的に機能するように適合されている。流体制御デバイスは、液浸リソグラフィの利便性のために所望のフローパターンが確立出来るように、露光領域の選択された一つまたはそれより多くの側のノズルをソースノズルとして機能させ、露光領域の残りの側の選択された一つまたはそれより多くの側のノズルを回収ノズルとして機能させる。
請求項（抜粋）：
ワークピースに対向して置かれた光学素子を介して像のパターンをワークピース上に投影させるための液浸リソグラフィ装置用液体噴射回収システムであって、露光領域が前記光学素子及び前記ワークピースとの間に画定されており、前記システムは、
前記露光領域に近接して位置付けられた開口部を備える複数のノズル列と;
流体制御デバイスであって、前記露光領域の一つまたはそれより多くの選択された側の一つまたはそれより多くのノズルをソースノズルとして選択し、且つ流体が液浸リソグラフィのために前記ワークピースと前記光学素子の両方に接触するように、前記ソースノズルを介して前記流体を前記露光領域に供給させる流体制御デバイスとを;備える液浸リソグラフィ装置用液体噴射回収システム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
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