特許
J-GLOBAL ID：200903072267211970
光学素子成形型およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三品 岩男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-300171
公開番号（公開出願番号）：特開平10-139453
出願日： 1996年11月12日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：
【要約】【課題】光学素子材料であるガラスの表面と成形型との反応および融着を生じにくく、高精度な光学素子を成形することができる成形型を提供する。【解決手段】光学素子材料と接する面が、所望の光学素子を成形するための形状に加工された母材1aと、母材1aの光学素子と接する面上に形成され、母材1aを構成する原子が光学素子材料へ拡散するのを防止する拡散防止膜1bと、拡散防止膜1bの上に形成され、拡散防止膜1bと光学素子材料との融着を防止する融着防止膜1cとを有する。ここで、拡散防止膜1bは、Hfを含む膜にする。
請求項（抜粋）：
光学素子材料と接する面が、所望の光学素子を成形するための形状に加工された母材と、前記母材の前記光学素子と接する面上に形成され、前記母材を構成する原子が前記光学素子材料へ拡散するのを防止する拡散防止膜と、前記拡散防止膜の上に形成され、前記拡散防止膜と前記光学素子材料との融着を防止する融着防止膜とを有し、前記拡散防止膜は、Hfを含むことを特徴とする光学素子成形型。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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