特許
J-GLOBAL ID：200903072272254342

α-アミノ酸アミド類の製造法

発明者：
銅谷 正晴

銅谷 正晴 について


出願人/特許権者：
三菱瓦斯化学株式会社

三菱瓦斯化学株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-011386
公開番号（公開出願番号）：特開2001-199947
出願日： 2000年01月20日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 アミノニトリル工程を必要としないα-アミノ酸アミド類の製造方法を提供する。【解決手段】 ケトン類の存在下、一般式(1)で表されるアルデヒドのシアンヒドリン類とアンモニア水とを反応させ、一般式(2)で表されるα-アミノ酸アミド類を製造する。R1CH(CN)OH (1)R1CH(NH2)CONH2 (2)(R1は水素原子、低級アルキル基、置換低級アルキル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、フェニル基、置換フェニル基、ベンジル基、置換ベンジル基、複素環基および置換複素環基である)
請求項（抜粋）：
ケトン類の存在下、一般式(1)で表されるアルデヒドのシアンヒドリン類とアンモニア水とを反応させることを特徴とする、一般式(2)で表されるα-アミノ酸アミド類の製造法。(化1) R1 CH(CN)OH (1)(R1 は水素原子、低級アルキル基、置換低級アルキル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、フェニル基、置換フェニル基、ベンジル基、置換ベンジル基、複素環基および置換複素環基である)(化2) R1 CH(NH2 )CONH2 (2)(R1 は水素原子、低級アルキル基、置換低級アルキル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、フェニル基、置換フェニル基、ベンジル基、置換ベンジル基、複素環基および置換複素環基である)
IPC (11件)：
C07C231/06 ,  B01J 23/04 ,  B01J 31/02 102 ,  C07C237/06 ,  C07C237/14 ,  C07C237/20 ,  C07C319/20 ,  C07C323/60 ,  C07D307/54 ,  C07D333/24 ,  C07B 61/00 300
FI (11件)：
C07C231/06 ,  B01J 23/04 X ,  B01J 31/02 102 X ,  C07C237/06 ,  C07C237/14 ,  C07C237/20 ,  C07C319/20 ,  C07C323/60 ,  C07D307/54 ,  C07D333/24 ,  C07B 61/00 300
Fターム (17件)：
4C023EA08 ,  4C037HA30 ,  4H006AA02 ,  4H006AC53 ,  4H006BA02 ,  4H006BA29 ,  4H006BA51 ,  4H006BA72 ,  4H006BE14 ,  4H006BJ20 ,  4H006BJ50 ,  4H006BU32 ,  4H006BU34 ,  4H006BU38 ,  4H006BV21 ,  4H039CA71 ,  4H039CF40
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特開昭53-082707
  • 特開昭57-158743
審査官引用 (2件)
  • 特開昭53-082707
  • 特開昭57-158743

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