特許
J-GLOBAL ID：200903072309993116
マルチビーム光走査装置及び画像形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
工藤 宣幸
, 鎌田 久男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-266012
公開番号（公開出願番号）：特開2006-259672
出願日： 2005年09月13日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：
【課題】 光源からの光線の、光軸に対する偏光方向又はその直交方向に制約をつけることなく光源を配置しても、光学効率を挙げることができるようにする。【解決手段】 本発明のマルチビーム光走査装置は、単一の光偏向装置と、複数の光源からの光線を上記光偏向装置に入射させる偏向前光学系と、光偏向装置からの各反射光線を光線毎の被走査面に結像させる偏向後光学系とを有する。偏向前光学系は、2つの光線の光路を合成する偏光ビームスプリッタと、偏光ビームスプリッタの2つの入射面へのそれぞれの光線に対し、その偏光方向を変更する第1及び第2の1/2波長板とを有する。ここで、偏光ビームスプリッタの出射面からの合成光線における各成分光の偏光方向を変更する1/2波長板若しくは1/4波長板を有することが好ましい。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
単一の光偏向装置と、
複数の光源からの光線を上記光偏向装置に入射させる偏向前光学系と、
上記光偏向装置からの各反射光線を被走査面に結像させる偏向後光学系とを有し、
上記偏向前光学系は、
2つの光線の光路を合成する偏光ビームスプリッタと、
上記偏光ビームスプリッタの2つの入射面へのそれぞれの光線に対し、その偏光方向を変更し、偏光ビームスプリッタ面でP波及びS波とする第1の偏光方向変更手段とを有する
ことを特徴とするマルチビーム光走査装置。
IPC (3件)：
G02B 26/10
, B41J 2/44
, H04N 1/113
G02B26/10 B
, B41J3/00 D
, H04N1/04 104A
2C362BA83
, 2H045AA01
, 2H045BA22
, 2H045BA34
, 5C072AA03
, 5C072BA02
, 5C072BA05
, 5C072DA02
, 5C072DA04
, 5C072DA30
, 5C072HA02
, 5C072HA06
, 5C072HA10
, 5C072HA13
, 5C072HB15
, 5C072QA14
, 5C072XA01
, 5C072XA05
出願人引用 (1件)
審査官引用 (10件)
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光ビーム走査装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-034650
出願人：日立工機株式会社
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特開平1-146748
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特開平1-146748
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