特許
J-GLOBAL ID：200903072315225937
写真製版ツールを制御する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
頓宮 孝一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-012311
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315220
出願日： 1991年02月01日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【目的】 フォトレジスト層が基板上に被着される電子デバイス等を構成するために写真製版装置と共に使用される測定装置の手順を提供する。【構成】 マスク等のオーバレイをフォトレジスト層上に投影して発生した検証マークを検査するために走査像検出器に関連してノマルスキ干渉コントラスト差顕微鏡が使用される。投影により潜像の形態で検証マークを作り、位相シフト差を用いた位相コントラスト形像により従来不可視の潜像を観察することができる。結果的に作られた像の各種の特性は、二次検証マークを、先に基板上に設けられた一次検証マークと整合させ、かつライン幅、投影量、焦点、温度制御並びにグローバルアラインメントをチェックできるように用いられる。フォトレジストの視察は、露光用放射より低周波数の放射を伴い、露光用放射はフォトレジストにより著しく吸収される。フォトレジストは観察用放射には透過性であってフォトレジストの上面並びに底面からの反射を許容する。
請求項（抜粋）：
加工物の表面で作動する写真製版ツールを制御する方法において、前記加工物の表面を観察するステップを含み、前記観察するステップが、前記表面上の第1の位置における隣接のサイトを、分離した放射ビームで観察して前記表面からの反射により前記ビームに誘導された位相シフト差により前記表面についてのデータを取得し、前記位相シフト差を振幅データに変換して前記第1の位置の像ポイントを作ることを含み、前記方法がさらに、前記第1の位置から離れた別の位置において前記観察するステップを繰り返し、全ての像ポイントが前記表面の検出された像のポイントを構成することになる、さらに別の像ポイントを取得するステップと、基準像パターンを提供するステップと、エッジ相関総和を用いることにより検出された像を前記基準像に相関させるステップと、を備える写真製版ツールを制御する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 311 M
, H01L 21/30 311 L
