特許
J-GLOBAL ID：200903072316624088
位相シフトフォトマスクブランクス生産方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-214611
公開番号（公開出願番号）：特開平7-064270
出願日： 1993年08月30日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：
【要約】【目的】 所望の位相シフト量と光透過率をもった位相シフトフォトマスクブランクスを生産する方法を提供する。【構成】 成膜途中に位相シフト膜の光学的特性を測定し、R.T.法又は偏光法により位相シフト膜の屈折率n1と消衰係数k1を算出し、これと同時に算出するか別途測定した膜厚の値h1とから成膜終了時点での位相シフト量と光透過率とを算出し、その値が許容範囲外であった場合には成膜条件を変更し、位相シフト膜の成膜を行うことを特徴とする位相シフトフォトマスクブランクスの生産方法。【効果】 目標とする位相シフト量と目標とする光透過率を持った位相シフトフォトマスクブランクスを簡単に得ることができる。
請求項（抜粋）：
光透過性材料から成る基板上に所定の位相シフト量と所定の光透過率とを有する位相シフト膜を成膜する位相シフトフォトマスクブランクス生産方法であって、成膜途中に、成膜途中の位相シフト膜の位相シフト量と光透過率とを測定する測定工程と、前記位相シフト量と前記光透過率と成膜時間とから、同一成膜条件で所定時点まで成膜を続けたときに得られる位相シフト膜の位相シフト量と光透過率とを予測する予測工程と、予測した位相シフト量と光透過率とが所定の位相シフト量及び所定の光透過率との差が許容範囲外になるときには、成膜条件を変更する修正工程とを備えたことを特徴とする位相シフトフォトマスクブランクス生産方法。
引用特許：
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