光子バンド・ギャップ材料を含む物品の製造方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡部正夫 (外11名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-262588
公開番号（公開出願番号）：特開2002-148463
出願日： 2001年08月31日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】ミクロン単位の周期性を持つ光子バンド・ギャップ材料を含む物品を製造するための改良形リソグラフィ方法を提供すること。【解決手段】上記方法は、現在のリソグラフィ方法および装置により容易に実行することができる。上記方法は、複数の積層からなる三次元構造体を提供するステップを含む。各層は種々のパターンの間に隙間を持つ、通常はシリコンである種々のパターンの第1の材料からなるほぼ平らな格子を含む。それぞれのパターンは、隣接する層の少なくとも一つのパターンと接触していて、複数の層全体の隙間は、相互に接続していて、隙間は、例えば、二酸化シリコンのような第2の材料を含む。通常、第2の材料は、第1の材料および空気の構造体を提供するために、相互に接続している隙間からエッチングされる。この構造体は、特定の光子バンド・ギャップを形成するように設計される。

請求項（抜粋）：

物品を製造するための方法であって、(a)表面がx、y面を形成している基板を提供するステップと、(b)前記基板上に、第1の材料から形成された種々のパターンと、第2の材料により実質的に充填された前記種々のパターンの間の隙間とからなり、前記x-y面に対して実質的に平面である格子を含む層を形成するステップと、(c)第2、第3、第4および第5の層に対してステップ(b)を反復して実行するステップであって、第2の層の前記格子が、前記第1の層の前記格子の前記(x,y)位置に対してx方向に距離dだけずれていて、前記第3の層の前記格子が、前記第2の層の格子の前記(x,y)位置に対してy方向に距離dだけずれていて、前記第4の層の前記格子が、前記第3層の前記格子の(x,y)位置に対して-x方向に距離dだけずれていて、第5の層の前記格子が、前記第4の層の前記格子の(x,y)位置に対して-y方向に距離dだけずれているステップと、(d)前記構造体から前記第2の材料をエッチングするステップとを含む方法。

IPC (4件)：

G02B 6/13 , G02B 1/00 , G02B 1/02 , G02B 6/12

FI (5件)：

G02B 1/00 , G02B 1/02 , G02B 6/12 M , G02B 6/12 N , G02B 6/12 Z

Fターム (6件)：

2H047KA03 , 2H047PA21 , 2H047PA24 , 2H047QA02 , 2H047QA07 , 2H047TA43

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