特許

J-GLOBAL ID：200903072320233891

露光方法及びデバイス製造方法

発明者： 吽野 靖行 ,  久保 博義
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-182408
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021708
出願日： 1998年06月29日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 フレアー光の光量を十分に小さくし、スルプットも上げる。【解決手段】 照明系1からの光を偏光ビームスプリッター2でP偏光光とS偏光光に分割し、P偏光光でレチクル5を照明するのと同時にS偏光光でレチクル5を照明し、レチクル5を通過したレチクル5のパターン情報を有するP偏光光がレチクル5、6と投影レンズ8の間にある偏光ビームスプリッター7を透過し、レチクル6を通過したレチクル6のパターン情報を有するS偏光光が偏光ビームスプリッター7で反射し、合成されて縮小投影レンズ8に入射する。

請求項（抜粋）：

二つのレチクルのパターンをウエハに投影する露光装置において、互いに偏光方向が直交する二つの偏光光の一方の偏光光によって一方のレチクルを照明すると共に他方の偏光光によって他方のレチクルを照明し、一方のレチクルからの偏光光は偏光ビームスプリッターで反射させて他方のレチクルからの偏光光は前記偏光ビームスプリッターを透過させてウエハに入射させることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

H01L 21/30 514 A ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 C ,  H01L 21/30 515 B

Fターム (16件)：

2H097AA03 ,  2H097AA13 ,  2H097AB09 ,  2H097CA17 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046AA01 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046BA08 ,  5F046CA04 ,  5F046CB07 ,  5F046CB10 ,  5F046CB15 ,  5F046CB17 ,  5F046CC04