特許

J-GLOBAL ID：200903072320564413

アセタール基により置換された芳香族ヒドロキシ化合物及びこれを含有するネガティブ型フォトレジスト組成物

発明者： パーク ジョー-ヒエオン ,  キム セオン-ジュ ,  キム ジ-ホン ,  パーク スン-イ
出願人/特許権者： クンホセオキュホアハクジュシクヘサ
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-254773
公開番号（公開出願番号）：特開平10-182537
出願日： 1997年09月19日
公開日（公表日）： 1998年07月07日
要約：

【要約】【課題】 良好な断面を有し、遠紫外線又はエクサイマーレーザー光をよく透過し、耐熱性、露出後貯蔵安定性に優れたパターンを形成する、アセタール基により置換された芳香族ヒドロキシ化合物及びこれを含有するネガティブ型フォトレジスト組成物を提供することである。【解決手段】 本発明のアセタール基は次の一般式(I)、(II)又は(III)で表示される。【化1】(前記式において、nは1〜6の整数であり、R1 はアルキル基、フェニル基又はベンジル基であり、R2 とR3 はそれぞれ独立的に水素原子、アルキル基、フェニル基又はベンジル基である。)

請求項（抜粋）：

次の一般式(I)、(II)又は(III)のアセタール基を有する次の一般式(IV)の芳香族ヒドロキシ化合物。【化1】(前記式において、nは1〜6の整数であり、R1 はアルキル基、フェニル基又はベンジル基であり、R2 とR3 はそれぞれ独立的に水素原子、アルキル基、フェニル基又はベンジル基である。)【化2】(前記式において、aは0〜5であり、bは2〜4であり、R1 とR2 はそれぞれ独立的に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基又はハロゲン基であり、R3 とR4 はそれぞれ独立的に水素原子、アルキル基又はフェニル基であり、R5 は炭素原子、アルキル基、ヒドロキシ基が包含されたアルキル基、フェニル基が包含されたアルキル基であり、R6 の少なくとも一つが前記一般式(I)、(II)又は(III)のアセタール基であり、残りが水素原子である。)

IPC (13件)：

C07C 43/303 ,  C07C 69/734 ,  C07C 69/92 ,  C07C 69/94 ,  C08F 8/00 ,  C08F 12/22 ,  C08L 25/18 ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (13件)：

C07C 43/303 ,  C07C 69/734 B ,  C07C 69/92 ,  C07C 69/94 ,  C08F 8/00 ,  C08F 12/22 ,  C08L 25/18 ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R