パターン形成方法およびその形成パターン

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：國分孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-063856
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258921
出願日： 1999年03月10日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】高精細高精度でしかも安価に実施し得るパターン形成方法およびその形成パターンを提供する。【解決手段】フォトペーストを印刷によりパターニングした後、露光および現像を行い、乾燥焼成により任意のパターンを形成する。パターン107側面は、その基板101に対して傾斜面を有し、基板101に垂直方向の光105を照射して露光し現像を行うことにより、パターン107側面を基板101に垂直方向に成形する。導電等の機能材料に感光性の機能を付加したフォトペーストをオフセットやスクリーン等の印刷によりパターニングした後、露光、現像を行い、形状の補正やショート欠陥等の余分な部分を除去し、乾燥焼成により任意のパターンを高精度高精細に形成することができる。

請求項（抜粋）：

フォトペーストを印刷によりパターニングした後、露光および現像を行い、乾燥焼成により任意のパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (9件)：

G03F 7/40 501 , B41M 1/06 , B41M 1/12 , B41M 3/00 , G03F 7/16 , G03F 7/20 501 , H01L 21/283 , H01L 21/027 , H01L 21/3205

FI (11件)：

G03F 7/40 501 , B41M 1/06 , B41M 1/12 , B41M 3/00 Z , G03F 7/16 , G03F 7/20 501 , H01L 21/283 A , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 564 Z , H01L 21/30 566 , H01L 21/88 B

Fターム (60件)：

2H025AA00 , 2H025AB15 , 2H025AB17 , 2H025EA04 , 2H025FA10 , 2H025FA15 , 2H025FA29 , 2H096AA00 , 2H096AA27 , 2H096CA12 , 2H096EA00 , 2H096GA02 , 2H096HA01 , 2H096JA04 , 2H097BA06 , 2H097FA03 , 2H097GA45 , 2H097JA03 , 2H097JA04 , 2H097LA09 , 2H113AA01 , 2H113AA03 , 2H113AA04 , 2H113BA05 , 2H113BA10 , 2H113BA47 , 2H113BB09 , 2H113BB22 , 2H113BC00 , 2H113BC12 , 2H113CA17 , 2H113FA35 , 2H113FA36 , 2H113FA40 , 2H113FA48 , 4M104AA09 , 4M104BB36 , 4M104DD51 , 4M104DD64 , 4M104DD78 , 4M104DD99 , 4M104HH20 , 5F033GG04 , 5F033PP26 , 5F033QQ00 , 5F033QQ01 , 5F033QQ19 , 5F033QQ73 , 5F033QQ84 , 5F033RR27 , 5F033VV15 , 5F033XX33 , 5F033XX34 , 5F046BA07 , 5F046BA10 , 5F046JA19 , 5F046JA21 , 5F046JA22 , 5F046JA27 , 5F046KA10

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