特許

J-GLOBAL ID：200903072328348450

カラーフィルタの製造方法

発明者： 武内 敏
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-319100
公開番号（公開出願番号）：特開平5-157905
出願日： 1991年12月03日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：

【要約】【目的】 液晶ディスプレイ等のフラットディスプレイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラーセンサ等に用いられる高解像度のカラーフィルタを効率よく得ることのできるカラーフィルタの製造方法および電着基板を提供する。【構成】 電着基板上に形成されたN型光半導体層に、所定の1色に対応するパターンを光描画し、またはフォトマスクを介して露光して導電性を発現させ、この導電性発現部分に上記の色に対応する電着材を電着して前記パターンに対応する単色フィルタを形成し、その後、上記のN型光半導体層上の単色フィルタ未形成領域の所定位置を光検出して位置制御し2色目以降のパターンの光描画・電着を繰り返すことにより必要色数からなる多色カラーフィルタを前記N型光半導体層上に形成し、この多色カラーフィルタを透明基板上に転写するとともに透明電極層を形成する。

請求項（抜粋）：

少なくとも表面が導電性である基板面に光メモリー性を有するN型光半導体層を積層して電着基板を形成する第1の工程と、前記N型光半導体層上に所定の1色に対応するパターンを光描画して露光し、または前記N型光半導体層上に所定の1色に対応するパターン有するフォトマスクを介して照射して露光し、前記N型光半導体層の露光部分に導電性を発現させ、次いでその色に対応する電着浴に浸漬して色フィルタ成分を電着し洗浄乾燥して、前記パターンに対応する単色フィルタを前記N型光半導体層上に形成し、以後、前記N型光半導体層上の単色フィルタ未形成領域の所定位置を光検出して位置制御し、2色目以降のパターンを光描画してその色に対応する電着浴に浸漬して色フィルタ成分を電着し洗浄乾燥して、2色目以降のパターンに対応する単色フィルタを形成することを繰り返すことにより、必要色数からなる多色カラーフィルタを前記N型光半導体層上に形成する第2の工程と、透明基板上に、前記N型光半導体層上に形成した前記多色カラーフィルタを転写し、転写した該多色カラーフィルタ上に透明電極層を形成する第3の工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。