処理装置及び処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-229526
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058425
出願日： 1998年07月31日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】ウェハ裏面に対してウェハの法線方向に向けてバックリンス液を吐出する場合には、ウェハの回転数やリンス液流量等の処理条件によってリンス液が跳ね返り、十分な洗浄が行えない、という課題がある。【解決手段】バックリンスノズル46はスピンチャック31によって保持されたウェハWの接線?@上に配置され、ウェハWの回転方向?Aに吐出方向?Bが向けられている。従って、バックリンスノズル46から吐出されたリンス液はウェハWの裏面における接線?@と法線?Cとの交点?Dに衝突するようになっている。

請求項（抜粋）：

基板の裏面を保持しつつ回転する保持回転部材と、前記保持回転部材により保持回転される基板の表面に処理液を供給する手段と、前記保持回転部材により保持回転される基板の裏面に、回転する基板の接線方向でかつ回転方向に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出手段とを具備することを特徴とする処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502 , H01L 21/304 643

FI (6件)：

H01L 21/30 564 C , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502 , H01L 21/304 643 A , H01L 21/30 564 D , H01L 21/30 569 C

Fターム (13件)：

2H025AB16 , 2H025EA05 , 2H096AA25 , 2H096CA14 , 2H096DA04 , 2H096GA17 , 5F046JA09 , 5F046JA22 , 5F046KA01 , 5F046KA07 , 5F046LA02 , 5F046LA04 , 5F046LA18

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開昭62-054438

審査官引用 (1件)

特開昭62-054438

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