特許

J-GLOBAL ID：200903072347652160

磁気ディスク用基板およびその製造方法

発明者： 増田 裕之
出願人/特許権者： 旭テクノグラス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-349412
公開番号（公開出願番号）：特開2001-167430
出願日： 1999年12月08日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】 磁気てディスク用ガラス基板表面において表面粗さを極微小の突起に至るまで低減して平坦性を確保し、磁気ディスク装置の磁気ヘッドの浮上高さを小さくして高密度化を行うことに対応できる磁気ディスク用ガラス基板およびその製造方法を提供する。【解決手段】 ガラス素材をガラス基板に成形する工程と、ガラス基板の表面を研磨加工する工程と、表面研磨された前記基板を溶融塩に浸漬してイオン交換による化学強化処理を行う工程とを含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨加工する工程に用いる研磨材中に酸化セリウムを60質量%以上含有させて研磨を行い、化学強化処理後のガラス基板表面の算術平均粗さRaが0.5nm以下、二乗平均粗さRMSが0.6nm以下であって、さらに微小うねりWA が0.5nm以下であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板を得る。また研磨加工する工程が、研磨材を含む溶液を用いて研磨する工程と、研磨材を含まない溶液を用いて研磨する工程とを含むものであってもよい。

請求項（抜粋）：

ガラス基板表面の算術平均粗さRaが0.5nm以下、二乗平均粗さRMSが0.6nm以下であり、さらに微小うねりWA が0.5nm以下であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。

IPC (5件)：

G11B 5/84 ,  B24B 37/00 ,  C03C 19/00 ,  G11B 5/73 ,  C09K 3/14 550

FI (5件)：

G11B 5/84 A ,  B24B 37/00 H ,  C03C 19/00 Z ,  G11B 5/73 ,  C09K 3/14 550 C

Fターム (20件)：

3C058AA07 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  4G059AA09 ,  4G059AC03 ,  4G059BB08 ,  5D006CB04 ,  5D006CB07 ,  5D006DA03 ,  5D006FA00 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA10 ,  5D112GA09 ,  5D112GA14 ,  5D112GA28 ,  5D112GA30