特許
J-GLOBAL ID：200903072352225190
液晶配向構造の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-110704
公開番号（公開出願番号）：特開平9-297309
出願日： 1996年05月01日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、表示不良や素子破壊といった製品不良の原因となるラビング処理を不要とするとともに、プレチルトを有する液晶配向構造をより短時間で簡単に製造する方法を提供することを目的とする。【解決手段】 所定波長領域内の波長を有し、偏光した光を吸収すると、偏光方向平行な面内方向に液晶分子を配向させる性質を生じる感光性高分子膜を表面に形成した基板を準備する工程と、前記所定波長領域内の波長を有する1種類の偏光光を斜め入射かつ偏光方向を入射面に垂直な方向から傾けて前記基板の感光性高分子膜に照射し、前記感光性高分子膜に吸収させてプレチルトを有する配向構造を作成する光吸収工程とを有する。
請求項（抜粋）：
所定波長領域内の波長を有し、偏光した光を吸収すると、偏光方向平行な面内方向に液晶分子を配向させる性質を生じる感光性高分子膜を表面に形成した基板を準備する工程と、前記所定波長領域内の波長を有する1種類の偏光光を斜め入射かつ偏光方向を入射面に垂直な方向から傾けて前記基板の感光性高分子膜に照射し、前記感光性高分子膜に吸収させてプレチルトを有する配向構造を作成する光吸収工程とを有する液晶配向構造の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1337 505
, G02F 1/1337 525
G02F 1/1337 505
, G02F 1/1337 525
