特許
J-GLOBAL ID：200903072354833030
露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-063211
公開番号（公開出願番号）：特開2001-250768
出願日： 2000年03月08日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：
【要約】【課題】 基板の表面状態の影響を排除しつつ合わせ込み動作を行うことができ、パターンの像のデフォーカスのおそれを抑制可能な露光装置を提供する。【解決手段】 予めウエハWの段差状態を検出し、そのウエハWの表面に近似する近似平面APFを求める。近似平面APFから大きく陥没または突出した位置にある検出点AFij' ,AFij''を排除しつつ、近似表面APFの近傍の複数の検出点AFijを選択して、その位置情報に基づいてウエハWの表面の光軸方向位置を検出し、その検出結果に基づいてウエハWの近似平面APFを投影光学系の像面に合わせ込む。
請求項（抜粋）：
マスク上に形成された所定のパターンの像を、投影光学系を介して、その投影光学系の光軸と交差する平面内で二次元移動可能な基板ステージに載置された基板上に投影転写するように構成するともに、前記投影光学系の投影視野内の所定位置に設定された複数の検出点と、その検出点において前記投影光学系の光軸方向における前記基板の表面の位置情報を検出する光軸方向位置検出手段と、少なくとも一部の前記検出点における前記基板の光軸方向位置に基づいてその基板の表面に近似する近似平面を前記投影光学系の像面に合わせ込む合焦手段とを備える露光装置において、前記合焦手段は、前記基板の表面状態に基づいて前記近似平面を検出する近似平面検出手段と、前記近似平面を像面に合わせ込む際に、その基板の表面の光軸方向位置を検出するために利用する前記検出点を、前記近似平面と前記各検出点との前記光軸方向における位置関係に応じて選択する検出点選択手段とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/22 H
, H01L 21/30 526 B
5F046BA04
, 5F046CB26
, 5F046CC04
, 5F046CC05
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DC07
, 5F046DD02
, 5F046DD03
