特許
J-GLOBAL ID:200903072355256649

投影露光装置及びレチクル保持方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宮川 貞二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-312798
公開番号(公開出願番号):特開平11-135412
出願日: 1997年10月28日
公開日(公表日): 1999年05月21日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 レチクルのたわみを小さくし、レチクルのたわみがレチクルホルダの加工精度及びレチクルの平面度に影響を受けないようにレチクルを保持する投影露光装置を提供する。【解決手段】投影光学系5の光軸に直交する面に対して傾斜した保持面10を有し、この保持面でレチクル4の下面のエッジ部分を保持するレチクルホルダ8を備えた投影露光装置1とする。レチクルホルダ8の保持面の傾斜の角度を、レチクル4の下面のエッジの部分の面取り9角度とほぼ同じとすることが望ましい。レチクルホルダの対向する保持面の間隔を調整可能としてもよい。レチクルをレチクルホルダの保持面に押し付けるクランプを取り付けてもよい。
請求項(抜粋):
レチクル上に形成されたパターンを基板上に投影する投影光学系と;前記投影光学系の光軸に直交する面に対して傾斜した保持面を有し、該保持面で前記レチクルのエッジ部分を保持するレチクルホルダとを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 521
FI (3件):
H01L 21/30 503 D ,  G03F 1/14 Z ,  G03F 7/20 521

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