特許

J-GLOBAL ID：200903072355859866

アライメント調整装置

発明者： 後藤 禎 ,  角田 道雄
出願人/特許権者： 日本精工株式会社
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  田中 克郎 ,  大賀 眞司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-306003
公開番号（公開出願番号）：特開2004-111955
出願日： 2003年08月29日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】 観測光学系の配置を容易としたアライメント調整装置を提供する。【解決手段】 ウエハマーク(W1〜W3)を単位処理領域の周りに複数形成した被処理基板(50)と、被処理基板を載置するステージ(201)と、被処理基板の単位処理領域(41)に対応する位置にマスクパターンを有し、この周りに複数のウエハマークに対応して複数のマスクマーク(M1〜M3)を形成したマスク(50)と、各ウエハマークにそれぞれ対応して配置されたウエハマークとマスクマークとを照明する複数の光源(L1〜L3)と、各ウエハマークの延在方向にそれぞれ位置し、光源によって照明されたウエハマークとマスクマークとを観測する複数のカメラと、観測結果に基づいて被処理基板とマスクとの相対的な位置を調整する制御部(205)と、を備え、複数のマスクマークのいずれか2つを結ぶ仮想線上に2つのカメラが位置しないように各カメラを配置する。【選択図】 図12

請求項（抜粋）：

位置調整のためのアライメントマークを単位処理領域の周りに複数形成した被処理基板と、 前記被処理基板を載置するステージと、 前記被処理基板の単位処理領域に所定のパターンを転写するためのマスクパターンを有し、この周りに前記複数のアライメントマークに対応して複数のマスクマークを形成したマスクと、 前記マスクを前記被処理基板上に保持するマスクホルダと、 前記各アライメントマークにそれぞれ対応して設けられる前記アライメントマークと前記マスクマークとを照明する複数の照明光源と、 各アライメントマークにそれぞれ対応し、前記照明光源によって照明された前記アライメントマークと前記マスクマークとを観測する複数のカメラと、 前記観測結果に基づいて前記被処理基板と前記マスクとの相対的な位置を調整する制御部と、を備え、 前記複数のマスクマークのいずれか2つを結ぶ仮想線及びこの延長線上に2つのカメラが位置しないように各カメラが配置される、アライメント調整装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F9/00

FI (2件)：

H01L21/30 525R ,  G03F9/00 H

Fターム (4件)：

5F046FA01 ,  5F046FA10 ,  5F046FA18 ,  5F046FB01