特許
J-GLOBAL ID:200903072363696801

半導体レーザとその製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松隈 秀盛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-231864
公開番号(公開出願番号):特開平6-196813
出願日: 1993年09月17日
公開日(公表日): 1994年07月15日
要約:
【要約】【目的】 半導体レーザへの戻り光による反射光を減少させる。【構成】 半導体基体1上に、レーザダイオード部2が形成されて成る半導体レーザにおいて、少なくともそのレーザビーム出射端直下の前方面をレーザビーム出射端から後退させる。
請求項(抜粋):
半導体基体上にレーザダイオード部が形成されて成り、少なくともそのレーザビーム出射端直下の上記半導体基体の前方面を、上記レーザビーム出射端の面から後退させて成ることを特徴とする半導体レーザ。
IPC (2件):
H01S 3/18 ,  G11B 7/125
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭61-128587
  • 特開昭61-121486

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