特許
J-GLOBAL ID:200903072378424921

遺跡・遺構の保存方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萼 経夫 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-042656
公開番号(公開出願番号):特開平5-069411
出願日: 1991年02月14日
公開日(公表日): 1993年03月23日
要約:
【要約】 (修正有)【構成】次式のポリアルキレングリコール付加シリコーン化合物(PGS):またはこれとシリコーン系硬化性組成物とを遺跡・遺構の表面に散布する。【効果】PGSは人体に無害で、遺跡・遺構表面のカビ・蘚苔類の発生を防止する。保護膜形成剤のシリコーン系硬化性組成物の併用により、PGSのカビ・蘚苔類発生効果が長期間持続し、遺跡・遺構表面が物理的・化学的作用から保護され、しかも保護膜による損傷が発生しない。
請求項(抜粋):
遺跡・遺構の表面に次式(化1):【化1】(式中、mは0〜10、nは1〜10、xは2〜6、yは3〜10、zは0〜10を表し、Aは-H、-CH3 、-C2 H5 、-C3 H7 、-COCH3 および-COC2 H5 から選択される基を表す。)で表されるポリアルキレングリコール付加シリコーン化合物を散布することを特徴とする遺跡・遺構の保存方法。
IPC (3件):
B27K 3/34 ,  C07F 7/08 ,  C08L 83/12 LRR

前のページに戻る