特許

J-GLOBAL ID：200903072386162260

ワーククリーニング方法

発明者： 橋本 賢治
出願人/特許権者： ワイエイシイ株式会社
代理人 (1件)： 田辺 良徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-223927
公開番号（公開出願番号）：特開2000-051799
出願日： 1998年08月07日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：

【要約】【課題】短時間に小さな異物及び大きな異物を除去することができる。異物除去と洗浄効果を併せて持ち工程の省力化を図る。装置全体が小型で安価で、またランニングコストも安価である。更にワークに傷、ダメージを与えない。【解決手段】 液晶パネル3の表面にノズル4より圧力水5を噴射して液晶パネル3の表面をクリーニングする。水の圧力を1200〜4000Kgf/cm2、液晶パネル3とノズル4の角度θを30〜90°、液晶パネル3とノズル4の距離Lを1〜100mmとして、液晶パネル3とノズル4とを液晶パネル3の表面に沿って相対的に移動させる。

請求項（抜粋）：

ワークの表面にノズルより圧力水を噴射してワークの表面をクリーニングする方法であって、水の圧力を1200〜4000Kgf/cm2 、ワークとノズルの角度を30〜90°、ワークとノズルの距離を1〜100mmとして、ワークとノズルとをワークの表面に沿って相対的に移動させてワークの表面をクリーニングすることを特徴とするワーククリーニング方法。

IPC (3件)：

B08B 3/02 ,  B24C 1/00 ,  G02F 1/13 101

FI (3件)：

B08B 3/02 G ,  B24C 1/00 Z ,  G02F 1/13 101

Fターム (9件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  3B201AA03 ,  3B201BB22 ,  3B201BB36 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201CB01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 金型洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-311117   出願人：バンドー化学株式会社
• 基板洗浄装置および基板洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-333121   出願人：大日本スクリーン製造株式会社, 富士通株式会社
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-345911   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平1-297186