特許

J-GLOBAL ID：200903072390756840

露光装置及び露光方法

発明者： 吉原 郁夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-283678
公開番号（公開出願番号）：特開平10-135099
出願日： 1996年10月25日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】 ウエハ面内のフォトレジスト膜厚の差に起因するウエハ面内の線幅のばらつきの発生を防止するようにした露光装置と、半導体ウエハの露光方法とを提供する。【解決手段】 本露光装置10は、従来の露光装置12と、第1の算出手段14と、第2の算出手段16とから構成されている。第1の算出手段は、ウエハ面内での設定線幅と形成線幅との差、即ち線幅偏差がウエハ中心からの距離に対して正規分布曲線に従って分布するという関係と、及び、試料ウエハの一の直径方向及びその直径方向に直交する方向に沿って任意に設定した複数の測定位置で測定した線幅測定値とに基づき、試料ウエハの任意に選定した位置での予測線幅を算出する。第2の算出手段は、線幅と露光量との相関関係に従って、予測線幅に基づき、選定位置で設定線幅を得るような、選定位置での所要露光量を算出する。

請求項（抜粋）：

ウエハ上のフォトレジスト膜にパターンを露光する露光装置において、ウエハ面内での設定線幅と形成線幅との差、即ち線幅偏差がウエハ中心からの距離に対して正規分布曲線に従って分布するという関係と、及び、所定の露光、及び現像条件で露光し、現像した試料ウエハの一の直径方向及びその直径方向に直交する方向に沿って設定した複数の測定位置で測定したパターンの線幅測定値とに基づき、試料ウエハの任意に選定した位置での予測線幅を算出する第1の算出手段と、第1の算出手段で算出した予測線幅に基づいて線幅と露光量との相関関係に従って、選定位置で設定線幅を得るような、選定位置での所要露光量を算出する第2の算出手段とを備えていることを特徴とする露光装置。