特許
J-GLOBAL ID：200903072397155125
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-319315
公開番号（公開出願番号）：特開平6-044528
出願日： 1991年12月03日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：
【要約】【目的】 薄膜磁気ヘッドの磁極加工速度を速くし、かつスループットを改善した薄膜磁気ヘッドを提供する。【構成】 磁性体層13、18より成る磁気回路、前記磁気回路中に形成された非磁性材料より成る磁気間隙層19、及び前記磁気回路に叉交するように形成されたコイル16とから成る誘導型薄膜磁気ヘッドであって、前記磁気間隙層がカーボン膜から成る。
請求項（抜粋）：
磁性層より成る磁気回路と、前記磁気回路中に形成された非磁性材料より成る磁気間隙層と、及び前記磁気回路に叉交するように形成された導体薄膜より成るコイルと、を有する誘導型薄膜磁気ヘッドであって、前記磁気間隙層がカーボン膜から成ることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
引用特許：
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