特許

J-GLOBAL ID：200903072401672270

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤製造用スルホニウム化合物

発明者： 坂本 宏 ,  原田 由香子
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-316703
公開番号（公開出願番号）：特開2008-127367
出願日： 2006年11月24日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：

【課題】高い解像度及び広い露光マージンを示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤であるカルボニルジフルオロメタンスルホナート型の分子構造をもつ酸発生剤を簡便に製造できる合成中間体となる新規なスルホニウム化合物を提供する。【解決手段】式(I)で示されることを特徴とするスルホニウム化合物。(式(I)中、Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。A+は有機対イオンを表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で示されることを特徴とするスルホニウム化合物。

IPC (3件)：

C07C 381/12 ,  G03F 7/004 ,  C07C 309/18

FI (3件)：

C07C381/12 ,  G03F7/004 503A ,  C07C309/18

Fターム (9件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  4H006AA01 ,  4H006AB91 ,  4H006AB92

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-039501   出願人：住友化学工業株式会社

審査官引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-039501   出願人：住友化学工業株式会社