特許

J-GLOBAL ID：200903072409753260

真空用機器およびその製造方法

発明者： 成田 秀夫 ,  大田 暢彦
出願人/特許権者： 株式会社安川電機
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-333686
公開番号（公開出願番号）：特開2004-173356
出願日： 2002年11月18日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】真空環境にさらされてもガス放出速度が小さく、容易に高真空領域に到達できる真空用機器を得る。【解決手段】本発明の真空用機器は、真空に面し、少なくとも一部が樹脂により構成され、前記樹脂の表面の少なくとも一部が無機質の皮膜で被覆されたにおいて、前記無機質の皮膜はその表面を溶融したものである。また、無機質をアルミナとし、その表面粗さを3μm以下としてもよい。また、無機質の皮膜の表面をレーザを照射して溶融させてもよい。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

真空に面し、少なくとも一部が樹脂により構成され、前記樹脂の表面の少なくとも一部が無機質の皮膜で被覆された真空用機器において、 前記無機質の皮膜はその表面を溶融したものであることを特徴とする真空機器。

IPC (3件)：

H02K41/02 ,  H02K15/12 ,  H02K41/03

FI (3件)：

H02K41/02 A ,  H02K15/12 Z ,  H02K41/03 A

Fターム (28件)：

5H615AA01 ,  5H615BB01 ,  5H615BB07 ,  5H615PP01 ,  5H615PP12 ,  5H615PP28 ,  5H615PP29 ,  5H615SS22 ,  5H615SS31 ,  5H615TT21 ,  5H615TT23 ,  5H615TT26 ,  5H615TT34 ,  5H641BB06 ,  5H641BB19 ,  5H641GG02 ,  5H641GG05 ,  5H641GG07 ,  5H641GG11 ,  5H641GG12 ,  5H641HH03 ,  5H641HH06 ,  5H641JA02 ,  5H641JA06 ,  5H641JA09 ,  5H641JB05 ,  5H641JB09 ,  5H641JB10