特許

J-GLOBAL ID：200903072424405813

ポジ型感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法

発明者： 鯉渕 滋 ,  橋本 通晰 ,  加藤 幸治 ,  橋本 政弘 ,  粕谷 圭 ,  木村 忠広
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-003870
公開番号（公開出願番号）：特開平11-109634
出願日： 1998年01月12日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】 遠紫外線、X線、電子線などの露光に対し高感度で解像度が高いポジ型感光性樹脂組成物及び解像度の優れたレジスト像を形成することができるレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(B)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(C)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解度を増加する酸分解性基を有する物質、(D)溶剤としてプロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートを含むポジ型感光性樹脂組成物及びこの感光性樹脂組成物を基板上に塗布、乾燥した後、露光、加熱、現像することを特徴とするレジスト像の製造法。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(B)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(C)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解度を増加する酸分解性基を有する物質、(D)溶剤としてプロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートを含むポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R