特許

J-GLOBAL ID：200903072424569492

ウエハ処理装置

発明者： 佐藤 峰一 ,  吉田 正通
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-122910
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335616
出願日： 1994年06月06日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【目的】 異物の付着した部品を効率よく洗浄でき、ウエハ処理を効率よく行うことができ、さらにクリーン度が悪化しないウエハ処理装置を提供する。【構成】 ウエハ1に所定の処理を施すプラズマエッチング室2と、これに隣接して設けられた第1および第2のプラズマクリーニング室3a,3bと、これに隣接して設けられ、ウエハ1をストックするウエハストック室4と、前記プラズマクリーニング室3a,3bをそれぞれ経由してプラズマエッチング室2とウエハストック室4との間を移動可能に設けられ、ウエハ1の処理中にプラズマエッチング室2内に留まる第1および第2のウエハ搬送治具5a,5bとからなる。一方のウエハ搬送治具5a,5bに保持されるウエハ1を処理しているときには、処理後のウエハ1をウエハストック室4に戻した他方のウエハ搬送治具5a,5bが第1または第2のプラズマクリーニング室3a,3bで洗浄される。

請求項（抜粋）：

ウエハに所定の処理を施すウエハ処理室と、前記ウエハ処理室に隣接して設けられた複数の洗浄室と、前記ウエハ処理室と1つの前記洗浄室との間をそれぞれ移動可能に設けられ、前記ウエハの処理中においては前記ウエハ処理室内に留まる複数のウエハ搬送部材とからなり、1つの前記ウエハ搬送部材に保持される前記ウエハを搬送して前記ウエハ処理室内で処理しているときに、前記ウエハが取り出された他の前記ウエハ搬送部材を前記洗浄室内で洗浄し得るようにしたことを特徴とするウエハ処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/3065 ,  C23C 14/56 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/68