特許
J-GLOBAL ID：200903072425729175
マスク保管装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-259945
公開番号（公開出願番号）：特開平11-095413
出願日： 1997年09月25日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：
【要約】【課題】 保管中におけるマスク上での欠陥発生を防止するとともに、既に付着した欠陥物質を分解除去し常に清浄なマスク品質を確保する。【解決手段】 マスク4を収納するための収納容器1の内部に、光触媒物質からなる壁2と、光触媒反応を励起し得る照明光源3を配置する。光源3から紫外線を光触媒物質からなる壁2に照射すると、その表面からは励起された活性酸素ラジカル等が生成され、強い酸化・還元作用を伴う光触媒反応が生ずるので、雰囲気気体5に存在する不純物ガス等は、例えば二酸化炭素と水素ガスに分解されて無害な無機イオンになる。したがって、マスク4には欠陥物質が生成、付着せず、マスク欠陥を防止できる。
請求項（抜粋）：
半導体集積回路製造に用いるパタン露光用マスクを保管・管理するためのマスク保管装置において、前記マスクを収納するための収納容器と、この収納容器の内部に設けた光触媒物質からなる壁と、光触媒反応を励起し得る照明光源を備えたことを特徴とするマスク保管装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/14 M
, H01L 21/30 503 E
