特許

J-GLOBAL ID：200903072432159074

金属用研磨材、研磨組成物及び研磨方法

発明者： 上田 和正 ,  高島 正之
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-130346
公開番号（公開出願番号）：特開2001-267273
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年09月28日
要約：

【要約】【課題】金属を高速に研磨し、研磨表面への傷の発生を抑制し、金属へのエッチングを抑制することができる金属用研磨材と金属用研磨組成物、及びそれらを用いてなる研磨方法を提供する。さらに、研磨面の平坦性をさらに向上できる金属用研磨組成物を提供する。【解決手段】〔1〕金属イオンを捕捉する官能基を有する粒子からなる金属用研磨材。〔2〕金属イオンを捕捉する官能基を有する化合物を含む粒子からなる金属用研磨材。〔3〕前記〔1〕又は〔2〕に記載の金属用研磨材、酸化剤及び水を含む金属用研磨組成物。〔4〕さらに、球状粒子、ベンゾトリアゾール及びベンゾトリアゾール誘導体からなる群から選ばれた少なくとも1種を含む前記〔3〕に記載の金属用研磨組成物。〔5〕金属を化学的機械研磨により研磨する方法であって、研磨組成物として前記〔3〕又は〔4〕に記載の金属用研磨組成物を用いる研磨方法。

請求項（抜粋）：

金属イオンを捕捉する官能基を有する粒子からなる金属用研磨材。

IPC (6件)：

H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  C09K 13/00

FI (6件)：

H01L 21/304 622 B ,  H01L 21/304 622 D ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 C ,  C09K 3/14 550 Z ,  C09K 13/00

Fターム (6件)：

3C058AA07 ,  3C058BC02 ,  3C058CA01 ,  3C058CB01 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12