特許

J-GLOBAL ID：200903072441202632

感光性ポリアミド酸エステル樹脂組成物のパターン加工方法

発明者： 山本 光弘 ,  指田 暢幸 ,  番場 敏夫
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-252400
公開番号（公開出願番号）：特開平6-102674
出願日： 1992年09月22日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：

【要約】【構成】 ピロメリット酸二無水物と3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物とを、2-ヒドロキシ-1,3-ジメタクリロキシプロパンでエステル化し、4,4'-ジアミノジフェニルエーテルでアミド化したポリアミド酸エステルを主成分とする感光性樹脂組成物をジエチレングリコールジメチルエーテル50重量%、イソプロパノール50重量%の現像液で現像するパターン加工方法。【効果】 グリコールエーテル類を主成分に含む現像液が露光部を膨潤させないことにより現像時に発生するしわを解消でき、この結果感光性ポリアミド酸エステル樹脂組成物の高解像度で適正なパターン加工を、広い現像時間幅で可能とすることができる。

請求項（抜粋）：

下記式(1)で示すポリアミド酸エステルからなる感光性ポリアミド酸エステル樹脂組成物を、【化1】(A)下記式(2) CxH2X+1-(OCH2CH2)y-OCzH2z+1 (2)x=1〜4,y=1〜4,z=1〜4で示されるグリコールエーテル類のうち一種または二種以上の混合物30〜100重量%と、(B)N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、4-ブチロラクトン、ジメチルスルホオキシド、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、エタノール、イソプロパノール、酢酸ブチルのうち一種または二種以上の混合物0〜70重量%からなる現像液で現像することを特徴とするパターン加工方法。

IPC (6件)：

G03F 7/30 ,  C08L 79/08 LRB ,  G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 504 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-238052
  
• 特開昭50-138901