特許
J-GLOBAL ID：200903072441808468
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-167845
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013372
出願日： 1991年07月09日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ処理装置に関し、マイクロ波透過窓の信頼性を向上した装置構成を提供することを目的とする。【構成】 プラズマ発生室に供給されてくるガスにマイクロ波透過窓を通してマイクロ波を照射してガスを励起し、プラズマを発生させてガスのラジカルを作り、このラジカルを被処理基板に供給して化学反応を行わせる装置において、マイクロ波透過窓を透光性アルミナを用いて形成することを特徴としてプラズマ処理装置を構成する。
請求項（抜粋）：
プラズマ発生室に供給されてくるガスにマイクロ波透過窓を通してマイクロ波を照射して該ガスを励起し、プラズマを発生させて該ガスのラジカルを作り、該ラジカルを被処理基板に供給して化学反応を行わせる装置において、前記マイクロ波透過窓を透光性アルミナを用いて形成することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
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