特許

J-GLOBAL ID：200903072445076429

汚水処理装置

発明者： 大同 均 ,  田島 規行 ,  長谷川 哲夫 ,  永井 睦郎 ,  鈴木 和夫 ,  岸根 義尚 ,  福永 和久 ,  坂田 守生
出願人/特許権者： 大同 均 ,  田島 規行 ,  日立金属株式会社 ,  栗田工業株式会社 ,  新日本製鐵株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-128872
公開番号（公開出願番号）：特開平10-314792
出願日： 1997年05月19日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 活性汚泥を高濃度に維持できる回分式活性汚泥処理装置を提供する。【解決手段】 原水を脱窒するための嫌気槽4と脱窒液を硝化処理するための好気槽5と硝化液を曝気するための曝気槽6とに区画された生物反応槽2を有し、汚泥を沈澱した後、上澄水を放流する回分式汚水処理装置において、上記嫌気槽4と好気槽5との間及び好気槽5と曝気槽6との間を区画する隔壁部7a,7bにろ過支持膜を有するろ過部材11を配置し、曝気槽6内にろ過支持膜を有するろ過ユニット10を浸漬配置する。

請求項（抜粋）：

汚水を流入して生物処理するための処理槽と、汚泥を沈澱した後上澄水を放流するための沈澱槽とを有し、処理槽は脱窒を行う嫌気槽と脱窒液の硝化を行う好気槽と硝化液を曝気する曝気槽とに区画されている汚水処理装置において、嫌気槽と好気槽との間及び好気槽と曝気槽との間を区画する隔壁部に、ろ過支持膜を有するろ過部材を配置すると共に、曝気槽内にろ過支持膜を有するろ過部材を浸漬配置したことを特徴とする汚水処理装置。

IPC (5件)：

C02F 3/34 101 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/08 ZAB ,  C02F 3/12 ,  C02F 3/30

FI (6件)：

C02F 3/34 101 D ,  C02F 1/44 K ,  C02F 3/08 ZAB B ,  C02F 3/12 Q ,  C02F 3/12 S ,  C02F 3/30 B