特許
J-GLOBAL ID：200903072447428713
磁性薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
井出 直孝 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-024141
公開番号（公開出願番号）：特開2001-217134
出願日： 2000年02月01日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：
【要約】【課題】 良好な特性の磁性薄膜が得られるように、蒸着により金属多層膜を形成して焼成する処理工程を最適化する。【解決手段】 Mn-Znフェライトの原料となる金属多層膜を真空蒸着により形成し、この金属多層膜を酸素を含む雰囲気中で1100°Cを越える温度で焼成酸化させるて磁性薄膜の製造方法において、雰囲気として高濃度酸素を用い、この高濃度酸素雰囲気中で240ないし480分間にわたり焼成する。
請求項（抜粋）：
Mn、ZnおよびFeからなる金属多層膜を真空蒸着により形成し、この金属多層膜を酸素を含む雰囲気中で1100°Cを越える温度で焼成することにより酸化させて磁性薄膜を形成する磁性薄膜の製造方法において、前記酸素を含む雰囲気は高濃度酸素雰囲気であり、この高濃度酸素雰囲気中で240分ないし480分間にわたり焼成することを特徴とする磁性薄膜の製造方法。
Fターム (6件)：
5E049AA01
, 5E049AC05
, 5E049BA12
, 5E049BA16
, 5E049EB06
, 5E049HC01
