特許
J-GLOBAL ID:200903072454120686
ガス濃度測定方法およびその測定装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
絹谷 信雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-052649
公開番号(公開出願番号):特開平5-256769
出願日: 1992年03月11日
公開日(公表日): 1993年10月05日
要約:
【要約】【目的】 SN比特性を改善して低濃度でもガス検知を行うことができ、しかも、新たに圧力センサを設けることなく、圧力補正が行えるガス濃度測定方法およびその測定装置を提供すること。【構成】 駆動電流および温度に応じた波長および強度のレーザ光を発振する半導体レーザ1からのレーザ光を、Q(6)線に対応する波長を中心に任意の振幅(変調振幅ΔΩ)で変調させ、一定温度に保たれた測定ガス用セル4内のメタンガスに通し、各変調振幅におけるレーザ光の透過光の強度を光検出器8bで検出し、ロックインアンプ14、15により位相敏感検波すると共に、検波信号の変化により測定ガス用セル4内のメタンガスの濃度を補正することを特徴としている。
請求項(抜粋):
駆動電流および温度に応じた波長および強度のレーザ光を発振するレーザを用い、このレーザの駆動電流あるいは温度を変化させて所定の波長を中心に任意の振幅で変調させたレーザ光を、一定温度に保たれたガス雰囲気に通し、各変調振幅におけるレーザ光の透過光の強度を検出し、この検出信号中の特定成分を位相敏感検波すると共に、検波信号の変化により上記雰囲気圧力下での特定ガスの濃度を測定することを特徴とするガス濃度測定方法。
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開平3-277945
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特開昭63-270270
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特開昭62-088943
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特開平3-239652
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特開平1-100437
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