特許
J-GLOBAL ID:200903072461204887

1,2-エポキシ-5,9-シクロドデカジエンを製造する方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-069585
公開番号(公開出願番号):特開2000-026441
出願日: 1999年03月16日
公開日(公表日): 2000年01月25日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、即ち、1,5,9-シクロドデカトリエンから高い反応速度且つ高収率で1,2-エポキシ-5,9-シクロドデカジエンを製造する方法を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明の課題は、タングステン化合物及び四級アンモニウム塩又は四級ピリジニウム塩を含む混合物又は錯化合物の存在下、1,5,9-シクロドデカトリエンと1,5,9-シクロドデカトリエンに対して0.04〜0.50倍モルの過酸化水素を接触させて、1,5,9-シクロドデカトリエンのモノエポキシ化を行うことを特徴とする、1,2-エポキシ-5,9-シクロドデカジエンを製造する方法によって解決される。
請求項(抜粋):
タングステン化合物及び一般式(1)【化1】(式中、R1、R2、R3及びR4は、同一或いは異なっていても良く、無置換又は置換基を有していても良い炭素数1〜18のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基若しくは炭素数6〜8のアリール基を示し、Xは、四級アンモニウムイオンと対イオンを形成し得る原子又は原子団を示す。)で示される四級アンモニウム塩或いは一般式(2)【化2】(式中、R5は、無置換又は置換基を有していても良い炭素数1〜18のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基若しくは炭素数6〜8のアリール基を示し、Xは、四級ピリジウムイオンと対イオンを形成し得る原子又は原子団を示す。)で示される四級ピリジウム塩を含む混合物又は錯化合物の存在下、1,5,9-シクロドデカトリエンと1,5,9-シクロドデカトリエンに対して0.04〜0.50倍モルの過酸化水素とを接触させて、1,5,9-シクロドデカトリエンのモノエポキシ化を行うことを特徴とする1,2-エポキシ-5,9-シクロドデカジエンを製造する方法。
IPC (4件):
C07D301/12 ,  B01J 31/34 ,  C07D303/04 ,  C07B 61/00 300
FI (4件):
C07D301/12 ,  B01J 31/34 Z ,  C07D303/04 ,  C07B 61/00 300
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
審査官引用 (1件)
  • Ishii Y.et al., Hydrogen peroxide oxidation catalyzed by heteropoly acids combined with cetylpyridin

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