特許
J-GLOBAL ID：200903072462030688
光源の解体成形装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
澤木 誠一 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-505788
公開番号（公開出願番号）：特表平8-512003
出願日： 1994年02月25日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：
【要約】光源(7)から発光される光束を均質化し所定の方向に指向せしめる光源解体成形装置(6)が示されている。この装置は、光が装置から反射し、または装置を通過した後指向される方向を制御する微細彫刻組織を有する。この彫刻組織は、これを通る所定の方向に指向された光を均質化する。この装置は、光源からの光を均質化し、指向せしめることを求める用途に用い得る。この用途には、従来の拡散体では対応できない拡散を含む。この均質化及び成形装置によれば、光伝導度及び反射効率を高め、サイドローブを減少できる。
請求項（抜粋）：
a.拡散する干渉光を用い感光性媒体内に彫刻面組織を形成する工程と、 b.上記感光性媒体を処理する工程と、及び c.上記感光性媒体の上記彫刻面組織の複製を作る工程と より成る均質化装置の製造方法。
IPC (6件)：
B29D 11/00
, G02B 5/02
, G02B 5/32
, G02B 19/00
, G02F 1/1335 530
, G03H 1/02
B29D 11/00
, G02B 5/02 B
, G02B 5/32
, G02B 19/00
, G02F 1/1335 530
, G03H 1/02
