特許

J-GLOBAL ID：200903072468439863

ニトリルをアミンに水素化するための触媒、その製造方法及びそれを使用する水素化方法

発明者： コルディエ,ジョルジュ ,  フーイユー,ピエール ,  ロラン,ナタリー
出願人/特許権者： ローヌ-プーラン シミ
代理人 (1件)： 倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-517800
公開番号（公開出願番号）：特表平9-505770
出願日： 1994年12月16日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】本発明は、ニトリルからアミンへの接触還元法に関する。特に、本発明は、ラネイNi型であって、周期律表の第IIb族及び第IVb族〜第VIIb族の元素から選択される少なくとも1種の元素をドープした、ニトリルからアミンへの接触還元用触媒に関する。この触媒は、最適化された活性、選択性及び安定性を有する。さらに、これは経済的であり、使用するのが簡単である。本発明の触媒は、その先駆体合金がアルカリ侵食の前に実質上ドープ剤を含まず、しかもニッケルの重量に関して重量で表わして、6%以下、好ましくは5%以下、さらに好ましくは2.5%〜4.5%であるアルミニウム含量を特徴とする。本発明は、このようなアミンを使用するニトリルからアミンへの接触還元法に関する。

請求項（抜粋）：

ニトリルをアミンに水素化するのに使用することができ、周期律表の第IIb族及び第IVb族〜第VIIb族の元素から選択される少なくとも1種の元素をドープしたラネイNi型触媒を製造するにあたり、ニッケル及びアルミニウムからなる金属合金をアルカリ侵食に付すことからなり、その際に ・ドープ剤を実質上含まないNi/Al金属合金を使用し、 ・該合金へのアルカリ侵食を錯化された形態のドープ剤の存在下に行うことを特徴とする、ラネイNi型触媒の製造方法。

IPC (4件)：

B01J 25/00 ,  C07C209/48 ,  C07C211/09 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

B01J 25/00 Z ,  C07C209/48 ,  C07C211/09 ,  C07B 61/00 300