特許
J-GLOBAL ID:200903072473074300

遷移金属カルベン錯体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件): 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  星 公弘 ,  二宮 浩康 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-552765
公開番号(公開出願番号):特表2009-525299
出願日: 2007年01月09日
公開日(公表日): 2009年07月09日
要約:
少なくとも1つのカルベン配位子を有するシクロメタル化された遷移金属-カルベン錯体の製造方法であって、配位子前駆体と塩基、補助試薬及び少なくとも1つの金属M1を有する金属錯体とを反応させること(経路A)、又は配位子前駆体と塩基性補助試薬及び少なくとも1つの金属M1を有する金属錯体とを反応させること(経路B)を含む方法。更に、本発明は、Ag、Hg、Sb、Mg、B及びAlからなる群から選択される少なくとも1つの金属を有する塩から選択される補助試薬を、塩基と一緒に、シクロメタル化された金属錯体の製造方法において用いる使用に関する。
請求項(抜粋):
少なくとも1つのカルベン配位子を有する一般式(I)
IPC (1件):
C07F 15/00
FI (3件):
C07F15/00 B ,  C07F15/00 E ,  C07F15/00 F
Fターム (13件):
4H039CA93 ,  4H039CL00 ,  4H050AA02 ,  4H050BA05 ,  4H050BA31 ,  4H050BB11 ,  4H050BB12 ,  4H050BB14 ,  4H050BB24 ,  4H050BB25 ,  4H050BB61 ,  4H050WB11 ,  4H050WB21
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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