特許

J-GLOBAL ID：200903072480758745

光ディスク用記録原盤の製造方法

発明者： 川西 義隆
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-265513
公開番号（公開出願番号）：特開平9-106584
出願日： 1995年10月13日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：

【要約】【課題】 記録用凹部の側壁を容易に垂直に形成することにより、光ディスクの高密度化を達成する。【解決手段】 本発明に係る光ディスク用記録原盤の製造方法は、基板10の表面に、第一の被エッチング材からなる下層12、第二の被エッチング材からなる中間層14及びフォトレジストからなる上層16をこの順に積層する第一工程と、上層16に記録情報となるパターンを露光及び現像する第二工程と、この露光及び現像された上層16をマスクとして中間層14をエッチングする第三工程と、このエッチングされた中間層14をマスクとして下層12をエッチングする第四工程とを備えたものである。

請求項（抜粋）：

基板の表面に、第一の被エッチング材からなる下層、第二の被エッチング材からなる中間層及びフォトレジストからなる上層をこの順に積層する第一工程と、この上層に記録情報となるパターンを露光及び現像する第二工程と、この露光及び現像された上層をマスクとして前記中間層をエッチングする第三工程と、このエッチングされた中間層をマスクとして前記下層をエッチングする第四工程とを備えた、光ディスク用記録原盤の製造方法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 ,  C23F 1/00 ,  C23F 1/00 102

FI (3件)：

G11B 7/26 501 ,  C23F 1/00 A ,  C23F 1/00 102

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-240452
  
• 特開平2-281932
  
• 特開平2-064942