特許

J-GLOBAL ID：200903072485853037

磁気記録媒体用スパッタリングターゲットおよびその製造方法

発明者： 谷口 繁 ,  川上 章 ,  村田 英夫
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-093608
公開番号（公開出願番号）：特開平6-104120
出願日： 1993年03月29日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：

【要約】【目的】 マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束を確保できると共に異常放電が発生しにくく、かつ生成する磁性膜に優れた磁気特性と記録再生特性が得られる磁気記録媒体用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。【構成】 本発明のターゲットは、化学組成が原子%で、Ni 5〜30%、Cr 5〜14%、V 6%以下、残部Coと不可避的不純物からなる合金であって、好ましくは平均結晶粒径が300μm以下、最大透磁率が100以下のスパッタリングターゲットである。また好ましくはターゲットに加工歪を残留させ、最大透磁率を低くする。また本発明の製造方法は、上記化学組成の合金に温間または冷間加工処理を施すことを特徴とする磁気記録媒体用スパッタリングターゲットの製造方法である。

請求項（抜粋）：

化学組成が原子%で、Ni 5〜30%、Cr 5〜14%、V 6%以下、残部Coと不可避的不純物からなる合金であることを特徴とする磁気記録媒体用スパッタリングターゲット。

IPC (4件)：

H01F 10/16 ,  C22C 19/07 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/85